本文標題："不同的顯微微觀測量技術在工業(yè)制造的應用簡介"
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不同的顯微微觀測量技術在工業(yè)制造的應用簡介
如果能保證形成和利用參考光波的元件穩(wěn)定，那么第一個條
件比較容易做到。必須把照像底版放置到，在它上面進行記錄全
息圖時的位置上，才能保證第二個條件。
在不同的時間以真實比例進行的干涉測量，可以觀察并不間
斷地記錄(例如， 用顯微攝影機)受動力載荷而變形的過程；可
以實現(xiàn)隨機檢驗，并將各種透明物體和鏡象眨射物體的廢品挑出
。這樣便解決了用干涉圖象測定零級條紋和變形變化的規(guī)律的困
難。一個全息圖可以記錄許多各種相位的和發(fā)散的反射物體的干
涉圖，這樣可以加速檢驗過程。為此，必需有專門的裝置，使全
息閡億曝光的位置上進行顯影，或是精確地安裝處理后的全啟、
圖。
兩次曝光的全息干涉測量技術，就是全息圖在顯影處理之前
進行兩次曝光：一次在表面原始狀態(tài)時曝光；另一次在表面受到
變形后曝光。這兩次曝光用同樣的參考光波。這種方法不會產(chǎn)生
再現(xiàn)光波與物體光波重合的問題。全息圖兩次曝光結(jié)束后，無論
是物體本身，還是全息照像裝置的光學元件就都不很重要了。無
論是顯示表面原始狀態(tài)的比較光波，還是相當于變化了的表面光
波， 用與原始參考光波相仿的光波照射全息圖時，都可以同時
使
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